中国的“曼哈顿计划”打造长期被西方封锁的先进极紫外光刻机

中国科学家在深圳一处高度保密的实验室中建造了一台极紫外光刻（EUV）原型机，据路透社最新报道，这一里程碑式成果正是华盛顿长期试图阻挠的。两名消息人士透露，这台占地近整个厂区的设备于2025年初完成组装并进入测试阶段，其研发团队由前ASML工程师组成，通过逆向工程破解了这家荷兰公司的技术。

极紫外光刻机是先进芯片制造的核心设备，利用极紫外光刻蚀超精细电路。中国这台原型机已能产生极紫外光，但尚未制造出可用芯片。ASML首席执行官克里斯托弗·富凯今年4月曾称中国需要"很多很多年"才能掌握该技术，但原型机的出现表明北京实现半导体自主的时间可能比预期更早。

路透社评论称，中国仍面临重大障碍，尤其是在精密光学方面。原型机所用的零部件来自二手市场的旧款阿斯麦（ASML）设备，官方目标是在2028年生产芯片，不过内部人士认为2030年更为现实。中国有关部门未予置评。

华为协调了众多来自各公司和研究机构的工程师。“目标是最终让中国能够用完全自主制造的机器生产先进的芯片，”一位消息人士称。“中国希望将美国彻底踢出其供应链。”

到目前为止，只有阿斯麦（ASML）掌握了极紫外光刻（EUV）技术。其机器售价约2.5亿美元，历经数十年才实现商业化，且由于美国主导的出口管制，从未向中国出售过。阿斯麦表示：“企业想要复制我们的技术是合乎情理的，但这样做绝非易事。”

这些管控措施虽减缓了中国的进展，但未能阻止其积极招募海外人才，包括化名在保密设施工作的退休华裔ASML前工程师。

中国的原型机比ASML的更大更粗糙，但已可运行。由于难以从蔡司等供应商处获取先进光学元件，进展受到限制。中科院长春光机所等研究机构在2025年初协助将极紫外光集成至系统中。

分析师Jeff Koch表示，若光源被证明强大且可靠，中国将取得"实质性进展"。他称："技术上可行无疑，只是时间问题。中国的优势在于商用极紫外光设备现已存在，他们并非从零开始。"

中国从ASML的旧型号设备、日本供应商以及二手市场采购零部件，有时通过中间商进行。约100名年轻工程师在持续监控下对部件进行逆向研发，成功者将获得奖金。

华为深度参与了芯片供应链的各个环节。部分员工吃住在工作现场，手机使用受限，各团队相互隔离以保障机密。"团队之间彼此隔离是为了保护项目机密，"一位消息人士表示，"他们不清楚其他团队的工作内容。"